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巴斯夫为中国半导体行业提供整体成本方案

2009-03-13来源:巴斯夫浏览量:1049

?以专业的化学解决方案提高流程效率及运营绩效 ?依托全球及本土研发资源,提供本土化产品和服务 ?2009中国国际半导体设备与材料展览会,W4厅,4243展台 (上海,2009年3月12日)作为全球领先的化工公司

?以专业的化学解决方案提高流程效率及运营绩效 

    ?依托全球及本土研发资源,提供本土化产品和服务 

    ?2009中国国际半导体设备与材料展览会,W4厅,4243展台

    (上海,2009年3月12日)作为全球领先的化工公司以及全球电子材料的领导者,巴斯夫在经济形势困难的时刻继续其与半导体行业加强合作的承诺。在即将举行的中国国际半导体设备与材料展览会上,巴斯夫将展示可靠的智能型化学解决方案,旨在提高流程效率及运营绩效,这对于身处目前困难市场环境的半导体行业尤其关键。本次展会将于2009年3月17日至19日在上海新国际博览中心举行。

    “在目前低迷的经济环境下,客户更需要用于集成电路的先进材料和技术。因此,巴斯夫在中国市场积极为客户提供符合他们需求的化学解决方案,并降低整体拥有成本。”巴斯夫电子材料(上海)有限公司总经理涂建忠表示:“比如,我们的客户可以在巴斯夫位于上海青浦的基地进行采购,在这里他们可以获得更好的本土化产品和服务。同时,我们按需送货,减小了客户的库存压力。凭借巴斯夫在化学方面的专业知识和深厚的质量控制经验,我们与客户密切合作,以各种量身定制的解决方案优化他们的流程效率和营运绩效。所以说我们可以为客户提供可靠的智能型方案,帮助他们获得长期成功。”

    在本次中国国际半导体设备与材料展览会上,巴斯夫将围绕增进半导体制造可持续性及效率的解决方案与来访者进行探讨,如: 

    ?高质量的洁净和蚀刻化学品解决方案; 

    ?适用于130纳米至45纳米技术节点的电化学沉积制程的一流产品CUPURTME; 

    ?化学机械平坦化解决方案,包括先进的化学机械研磨液; 

    ?用于平面显示器及太阳能产业的铝蚀刻液、剥离液、洗剂、氧化铟锡(ITO)蚀刻液、三氯氧磷(POCI3),以及切削液。

    巴斯夫电子材料业务部拥有一支强大的全球研发团队,包括中央研发平台以及巴斯夫集团的跨国、跨学科研发网络。依托这一宽广的网络,开发活动可在本土进行,以便为客户定制解决方案。在一个合作开发的项目中,巴斯夫已与IBM携手,共同开发一项新技术,用以制造基于32纳米技术集成电路的下一代高性能、节能型芯片。

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